基辛格，投身EUV光刻

157 0 0

文章摘要

前英特尔CEO帕特·基辛格在离开英特尔后，加入了EUV光源初创公司xLight，担任执行董事长。xLight致力于通过粒子加速器技术革新极紫外（EUV）光刻技术，以解决当前激光等离子体（LPP）光源的高能耗和功率限制问题。目前，LPP光源在尖端半导体制造中占据主导地位，但其耗电量巨大，且无法完全支持未来更高功率的需求。xLight的目标是在2028年前推出一种基于自由电子激光器（FEL）的EUV光源，该光源不仅与现有工具兼容，还能显著提升功率和效率。

xLight的FEL技术有望将EUV光源的功率提升至当前最先进光源的四倍，从而优化半导体晶圆厂的图案化工艺、生产效率和良率。通过这一技术，晶圆厂每片晶圆的成本预计将降低约50%，同时资本和运营支出也将大幅减少。此外，xLight的系统具备完全冗余设计，确保高可用性，并支持多台扫描仪同时运行，进一步提升生产效率。

基辛格强调，光刻技术是先进半导体制造的核心，而EUV光源的改进对于美国在半导体领域的领先地位至关重要。xLight的技术不仅能够支持ASML现有的EUV光刻系统，还能为未来的更短波长EUV光提供支持，从而延续摩尔定律。除了半导体应用，xLight的FEL技术还可能在计量、检测、国家安全和生物技术等领域带来突破性进展。

xLight的核心技术基于成熟的粒子加速器和FEL技术，通过电子束复用和光学复用技术，实现了高功率、可调性和偏振控制。这一系统不仅具备高可靠性，还能通过多路复用技术支持多个扫描仪，确保维护不会影响持续运营。xLight的目标是通过其技术，重塑美国在先进半导体制造领域的领导地位，并为其他高影响力领域带来短期收益。

尽管xLight的技术前景广阔，但实现大规模商业化仍面临挑战。目前，xLight正在构建一个功能齐全的原型，计划在2028年前连接到ASML的扫描仪并进行晶圆测试。与此同时，全球其他研究团队也在探索类似的粒子加速器技术，但距离实际应用仍有较长的路要走。xLight的成功与否，将直接影响未来半导体制造的技术路线和全球竞争格局。