标签：极紫外光刻

EUV光刻机“秘史”！

光刻技术作为半导体制造的核心工艺，其发展历程直接推动了摩尔定律的实现。从20世纪70年代至今，晶体管尺寸从约10000纳米缩小至20-60纳米，这一突破主要依赖...

AIGC动态

3周前

在全球半导体行业追求更高密度、更高性能的芯片制造的背景下，极紫外（EUV）光刻技术成为了关键。目前，这种技术依赖于极紫外光源，其产生过程复杂且成本高昂...

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2年前 (2024)